英文名稱:Sulfane 
  CAS號:7803-62-5 
  分子式:SiH4  
  分子量:32.12 
  規(guī)格:99.999% 
  熔點(101.325kPa): -185.0℃  
  沸點(101.325kPa): -111.5℃  
  液體密度(-185℃): 711kg/m3  
  氣體密度(0℃,100kPa): 1.42kg/m3  
  相對密度(氣體,空氣=1,20℃,101.325kPa):1.114  
  比容(21.1℃,101.325kPa): 0.7518m/kg  
  氣液容積比(15℃,100kPa):412L/L  
  臨界溫度: -3.4℃  
  臨界壓力:4843kPa  
  包裝:44L、47L鋼瓶充裝,也可根據(jù)客戶需要,分裝到8L的氣瓶中 
   
  產(chǎn)品參數(shù):  
  
    |  氣體  | 
     純度   | 
    雜志含量(ppm)   | 
    鋼瓶   | 
    閥門   | 
    備注   | 
   
  
    SiH4   | 
    99.9999%   | 
    CO2≤0.05,CO≤0.05,Ar≤0.5,C2H6≤0.15,   | 
    47L   | 
    JIS22L   | 
    10KG/瓶   | 
   
  
    H2≤20,He≤1,O2≤0.5,N2≤0.5H2O≤0.5,CH4≤0.05   | 
    44L   | 
    DISS632   | 
    11KG/瓶   | 
   
 
硅烷質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):  
  
    | 項目名稱  | 
    雜質(zhì)含量(ppm)   | 
   
  
    硅烷 純度指標(biāo)(%) ≥99.9999   | 
       | 
   
  
    氬氣(Ar)   | 
    ≤0.05   | 
   
  
    氯硅烷(Chlorosilane))   | 
    ≤0.15   | 
   
  
    乙硅烷(Si2H6))   | 
    ≤0.5   | 
   
  
    氦氣(He)   | 
    ≤1   | 
   
  
    一氧化碳(CO)   | 
    ≤0.05   | 
   
  
    氧氣(O2)   | 
    ≤0.05   | 
   
  
    氮氣(N2)   | 
    ≤1   | 
   
  
    氫氣(H2)   | 
    ≤20   | 
   
  
    二氧化碳(CO2)   | 
    ≤0.05   | 
   
  
    甲烷(CH4)   | 
    ≤0.05   | 
   
  
    碳(C)   | 
    ≤0.2   | 
   
  
    二氯二氫硅(SiH2Cl2)   | 
    ≤0.5   | 
   
  
    甲基硅烷(CH3Si)   | 
    ≤0.5   | 
   
  
    金屬離子(Metals)   | 
    ≤0.03   | 
   
 
硅烷有毒。硅烷在半導(dǎo)體工業(yè)中主要用于制作高純多晶硅、通過氣相淀積制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔離層、多晶硅歐姆接觸層和異質(zhì)或同質(zhì)硅外延生長原料、以及離子注入源和激光介質(zhì)等,還可用于制作太陽能電池、光導(dǎo)纖維和光電傳感器等。 
   
硅烷廣泛應(yīng)用于微電子、光電子工業(yè)。可用于制造高純度多晶硅、單晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、碳化硅、異質(zhì)硅、各種金屬硅化物等。因為它高純度和能實現(xiàn)精細控制,已成為許多其他硅源無法取代的重要特種氣體。 
 
硅烷氣是太陽能電池生產(chǎn)過程中不可或缺的材料,因為它是將硅分子附著于電池表面的最有效方式。在高于400℃的環(huán)境下,硅烷氣分解成氣態(tài)硅和氫氣。氫氣燃燒后,剩下的就是純硅了。此外,硅烷氣可以說是無處不在。除了光伏產(chǎn)業(yè)外,還有很多制造工廠需要用到硅烷氣,如平板顯示器、半導(dǎo)體、甚至鍍膜玻璃生產(chǎn)廠。  
 
  儲存: 
   
  1.在通風(fēng)良好、安全且不受天氣影響的地方存儲。鋼瓶應(yīng)直立擺放。且保持保護性閥蓋和輸出閥的密封完好。 
   
  2.存儲區(qū)域應(yīng)遠離頻繁出入處和緊急出口。儲存區(qū)域內(nèi)不應(yīng)有火源,儲存區(qū)內(nèi)所有電器必須有防爆設(shè)施。易燃物存放區(qū)應(yīng)與氧及氧化物存放區(qū)最少相距20ft。 
   
  3.或者在中間放置至少5英尺高的非易燃材料作為屏障,以保證能耐火半小時。儲存區(qū)和使用區(qū)內(nèi)應(yīng)有“禁止吸煙和使用明火”的告示牌。 苯基氯硅烷4.存儲溫度不可高于125℉(52℃)。將空瓶與滿瓶分開存放。避免過量存儲和存儲時間過長。 
   
  5.使用先進先出系統(tǒng)。應(yīng)考慮在儲存區(qū)內(nèi)安裝測漏器和報警設(shè)備。 
   
  注意事項: 
   
  系統(tǒng)溫度不可低于-170℉ (-112℃),否則可能會吸入空氣形成爆炸性混合物。 
   
2.不要讓硅烷與重金屬鹵化物或鹵素接觸,硅烷與它們劇烈反應(yīng)。應(yīng)仔細吹掃系統(tǒng),以防殘留有脫脂劑,其中所含的鹵素或其他含氯的碳氫化合物。   
 
3.用二至三倍的工作壓力對系統(tǒng)進行全面加壓檢漏,最好使用氦氣。此外,還應(yīng)建立和執(zhí)行常規(guī)的檢漏制度。   
 
4.系統(tǒng)檢漏或因其他原因打開之后,應(yīng)使用抽真空或惰性氣體吹掃的方法將系統(tǒng)中的空氣吹掃干凈。在打開任何裝有硅烷的系統(tǒng)之前必須用惰性氣體全面吹掃系統(tǒng)。如果系統(tǒng)中的任何部分有死角或可能殘留硅烷的地方,必須抽真空循環(huán)吹掃。   
 
5.應(yīng)將硅烷排放到一個專門處理它的地方,最好是將它燃燒掉。即使硅烷濃度較低也十分危險,不能暴露在空氣中。硅烷在被惰性氣體稀釋成不可燃的氣體后也可以排空。   
 
6.應(yīng)按照美國壓縮氣體協(xié)會的要求儲存和使用壓縮氣體。當(dāng)?shù)乜赡軐Υ婧褪褂脷怏w要求有特殊的設(shè)備規(guī)定。  |